- Книга
- Содержание
Вернуться в библиотеку
Высокочастотный емкостный разряд. Физика. Техника эксперимента. Приложения
Закрыть (Esc)
Высокочастотный емкостный разряд. Физика. Техника эксперимента. Приложения
Райзер Ю.П.
Шнейдер М.Н.
Яценко Н.А.
- Титульный лист
- Глава 1. Физические основы
- 1.1. Способы возбуждения высокочастотных разрядов
- 1.2. Колебания электронов в осциллирующем электрическом поле
- 1.3. Электродинамические характеристики плазмы и взаимодействие плазмы высокочастотных разрядов с осциллирующими полями
- 1.4. Рождение и гибель электронов; поддержание плазмы
- 1.5. Простейшая модель высокочастотного емкостного разряда
- 1.6. Постоянный положительный потенциал плазмы
- 1.7. Стохастический нагрев электронов
- 1.8. Две формы существования высокочастотного емкостного разряда
- Глава 2. Высокочастотные емкостные разряды среднего давления
- 2.1. Приэлектродные слои пространственного разряда
- 2.2. Экспериментальные вольт-амперные характеристики
- 2.3. Вольт-амперные характеристики и нормальные плотности тока в а-разряде (теория и численное моделирование)
- 2.4. Параметры а-у-перехода
- 2.5. У-разряд
- 2.6. Почему при средних давлениях а-у-переход совершается скачком, а при низких - без видимого изменения параметров?
- 2.7. Сосуществование- двух форм ВЧЕ разряда в промежутке между двумя электродами
- 2.8. Высокочастотные емкостные разряды высокого давления
- 2.9. Высокочастотные разряды с изолированными электродами
- Глава 3. Высокочастотные емкостные разряды низкого давления и эф¬фекты асимметрии
- 3.1. Самосмещение в асимметричном разряде с блокировочной емкостью
- 3.2. Причинные связи, определяющие параметры слоев и плазмы в высокочастотном емкостном разряде, контролируемом амбиполярной диффузией
- 3.3. Динамика приэлектродных слоев и ангармоничность тока в асимметричном разряде
- 3.4. Причины и характер ангармоничности тока в асимметричном и симметричном разрядах
- 3.5. Батарейный эффект в асимметричном разряде
- 3.6. Условия «непрозрачности» плазмы для высокочастотного поля, быстрой реакции электронов на ero изменения и «отсутствия» колебаний ионов в слоях
- 3.7. Плавающий потенциал
- 3.8. Приэлектродный слой
- 3.9. Энергетический спектр ионов, бомбардирующих поверхность электрода
- 3.10. Высокочастотные разряды в электроотрицательных газах
- 3.11. а-у-переход без скачка плотности тока и у-разряд
- 3.12. Некоторые вопросы, касающиеся стохастического нагрева электронов
- 3.13. Численное моделирование высокочастотных разрядов низкого давления
- 3.14. Магнетронный высокочастотный разряд
- Глава 4. Некоторые вопросы методики измерений и техника эксперимента
- 4.1. Измерения напряжений на электродах, плазме, слоях и соответствующие ВАХ
- 4.2. Зондовые измерения постоянного потенциала пространства и плазмы в высокочастотном разряде
- 4.3. Активное зондирование высокочастотного разряда постоянным электрическим током
- 4.4. Метод изучения поперечной структуры разряда
- 4.5. Оптические методы изучения пространственной структуры высокочастотного разряда
- 4.6. Лазерно-индуцированная флуоресценция и лазерная оптогальваническая спектроскопия
- 4.7. Получение на опыте и управление высокочастотным разрядом
- Глава 5. Использование высокочастотных емкостных разрядов для возбуждения газовых лазеров и в плазменной технологии
- 5.1. ВЧ разряд и газовые лазеры. Историческое введение
- 5.2. Причины, побуждающие обращаться к высокочастотному разряду при создании лазеров
- 5.3. Влияние частоты на характеристики высокочастотного разряда и параметры активной лазерной среды
- 5.4. Принципы выбора параметров и конструкции СО 2 -лазеров с диффузионным охлаждением, возбуждаемых поперечным высокочастотным разрядом
- 5.5. Оптические резонаторы волноводных и щелевых СО2-лазеров с высокочастотным возбуждением
- 5.6. Быстропроточные СО2-лазеры, возбуждаемые ВЧ разрядом и комбинированным ВЧ разрядом с участием постоянного тока
- 5.7. Лазеры с активными средами, отличными от СО 2
- 5.8. Магнитная стабилизация разряда в щелевых системах
- 5.9. Плазмохимическая технология
- Список литературы